除了14纳米工艺之外，目前中芯国际的N+1，N+2工艺也取得了一定的成绩，假以时日不排除他们能够实现7纳米工艺的量产。

中芯国际能够取得这个成绩可喜可贺，这已经是我国最先进的芯片工艺了，这对于缓解外部限制，满足国内一些高端芯片的需求具有重要的意义。

但是中芯国际之所以能够取得这个成绩，从某种程度上来说主要依赖国外一些供应商提供的关键零部件，短期内他们根本不可能突破美国的封锁。

实际上中芯国际在生产14纳米芯片的过程当中也并非一帆风顺，目前中芯国际有很多零部件仍然依靠从外部进口，一旦这些核心零部件被限制了，对中芯国际的生产同样会产生很大的影响。

只不过在2021年3月份的时候，美国已经批准美国一些先进设备厂家对中芯国际供应14纳米及以上成熟工艺制程的供应许可，这才能够让中芯国际顺利生产14纳米芯片，当然这个前提是中芯国际也做出了让步，那就是不能代工H为的芯片。

但即便中芯国际能够实现14纳米及以上工艺制程的量产了，也不能高产无忧，毕竟目前有很多零部件仍然掌握在国外供应商的手里。

芯片制造是非常复杂，也是非常高端的一项制造业，这里面需要用到很多高端设备，但是按照目前我国芯片产业链的实际情况来看，很多高端设备都没法自己生产，仍然严重依赖进口。

提到芯片制造的核心零部件，很多人可能简单地理解为就是光刻机，但其实芯片制造涉及的零部件非常多，不只是光刻机这么简单。

单纯从光刻机的角度来看，目前我们跟国际先进水平确实有很大的差距，目前我国真正能够实现量产的光刻机是由上海微电子生产的28纳米光刻机，这个光刻机通过多次曝光之后，也许能够用于生产14纳米的芯片。

但是目前国际最先进的光刻机是由荷兰asml提供的EUV光刻机，它已经实现了7纳米技术的突破，而且5纳米很快也会推出来。

只不过因为一些特殊的原因，asmL生产的EUV光刻机并不会对中国出口，他们生产出来的一些高端光刻机只会优先供应给台积电，三星，英特尔等一些厂家，这也是为什么这些芯片厂家能够在国际芯片市场当中占据巨大优势的重要原因。

假如短期内我们没法进口这些高端光刻机，单凭国内的光刻机供应，根本不可能缩小跟国际顶尖水平的差距。

当然除了光刻机有很大差距之外，实际上在芯片制造过程当中所需要的很多零部件，我们跟国际也有很大差距，尤其是一些关键的核心零部件，仍然严重依赖进口。

比如下图是芯片生产涉及的各种设备以及材料的国产替代率情况。

从这个数据可以看出，目前我有很多设备以及材料仍然严重依赖进口，国内能够完全替代进口产品的厂家并不多。

即便有一些厂家生产出的设备或者材料能够替代部分进口产品，但是性能想要达到国际进口产品的标准，仍然有一定的差距，这也是为什么目前国内很多芯片制造厂家大量从外国进口设备的重要原因。

而且在我们进口的这些核心零部件以及材料当中，很多都是从欧美日进口，其中从美国进口的零部件其实很多，比如蚀刻 ( etching ) 、微影 ( lithography ) 与晶圆清洗机 ( wafer cleaning ) 等制程设备、测试机台，设备运作相关耗材等等。

不过最近几年时间，我国对芯片产业越来越重视，投入力度也越来越大，芯片制造产业链上的一些设备和材料已经开始出现一些国产设企业，而且未来随着国产设备的不断进步，我相信始终有一天会替代大部分进口产品。

目前芯片生产所需要的很多设备和材料，其实我国也有相应的厂家可以替代。

比如光刻机有上海微电子以及华创清科；蚀刻机北方华创、中微；离子注入机有万业，中科信；炉管设备有北方华创，晶盛机电；检测设备有精测电子、华峰测控、长川科技等等。

另外在材料供应商方面，国内也有越来越多的企业能够提供替代方案，比如中环股份、沪硅产业可以提供硅片；江丰电子、有研新材可以提供靶材；上海新阳能够提供高纯度试剂，；华特气体、南大光电能够提供特种气体；安集科技可以提供抛光材料，南大光电、晶瑞电材可以提供光刻胶等等。

虽然这些国产设备以及材料供应商跟国际顶尖水平仍然有一定的差距，但随着市场的不断拓展，随着技术的不断进步，我相信未来有一天国产设备肯定能够逐渐缩小跟国际顶尖水平的差距。